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Nanoscribe Quantum X align對準雙光子光刻系統

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詳細介紹

全新Quantum X align對準雙光子光刻(A2PL?)系統通過新添加的高精度對準功能實現了對高精度結構的放置,增強了Nanoscribe已受大眾認可的三維微納加工技術。這款具備納米級精度對準3D打印功能的最高分辨率打印設備利用A2PL技術,自由曲面微光學原件可以以亞微米精度對齊打印到光纖或光子芯片光軸上??蓱糜谏a用于光子集成和封裝或小型化成像光學器件的高效光學互連,例如用于微創內窺鏡檢查等。


  • 通過對準雙光子光刻技術(A2PL)實現高性能3D微納加工

  • 在光纖上進行3D打印: 基于纖芯檢測功能實現在光纖表面精確對準打印

  • 在芯片上進行3D打印: 基于3D基底拓撲構圖在芯片表面或刻面上精確對準打印

  • 3D對準技術:自動檢測和三個旋轉軸上襯底傾斜補償

  • 高速微納加工智能切片

  • 基于雙光子聚合(2PP)的高精度3D打印


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產品優勢
高分辨率專利A2PL技術3D打印應用于納米級精度對準
再光纖和芯片上進行3D打印
納米級精度3D對準技術
光學級三維打印

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